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      終于還是被逼急了?美國斷供芯片 俄羅斯決定自研造光刻機

      導讀: 終于還是被逼急了?美國斷供芯片 俄羅斯決定自研造光刻機繼微軟、英特爾、蘋果、聯(lián)想等科技巨頭宣布對俄羅斯發(fā)起制裁之后,新的

      終于還是被逼急了?美國斷供芯片 俄羅斯決定自研造光刻機

      繼微軟、英特爾、蘋果、聯(lián)想等科技巨頭宣布對俄羅斯發(fā)起制裁之后,新的一輪的制裁又來了,俄羅斯最大的微電子制造商和出口商Mikron被列入制裁清單,并禁止所有美企與其進行往來。



      Mikron成立于1959年,從2006年開始研發(fā)180nm芯片制程,在2010年掌握了90nm芯片制程,并在2016年量產(chǎn)了65nm芯片制程,也是俄羅斯唯一一家掌握65nm芯片制程的廠商。面對步步緊逼的制裁,俄羅斯也突然宣布了一個消息——決定自己研發(fā)X光刻機。

      熟悉芯片的人應(yīng)該都知道光刻機是全球人類共同智慧的結(jié)晶,目前最先進的便是由荷蘭ASML生產(chǎn)的EUV光刻機了,可以制造出5nm、甚至是3nm制程的芯片,幾乎沒有哪一個公司或者國家能夠單獨制造出最先進的EUV光刻機。然而在俄羅斯的支持下,莫斯科電子技術(shù)學院將開始自研X光刻機的任務(wù)。


      目前的EUV光刻機是讓極紫外光線透過放大的掩膜,再通過縮圖透鏡“投影”到晶圓上進行光刻。那什么是X光刻機?就是直接使用X射線通過縮圖透鏡進行光刻機,原理上甚至比目前的EUV光刻機更方便。但是X光刻機目前的難點是無法解決普通透鏡帶來的無法放大、縮小的問題,還有X射線工藝、效率問題。在俄羅斯貿(mào)工部投資了6.7億盧布(約合5100元人民幣)后,莫斯科電子技術(shù)學院將對X光刻機的理論進行驗證,爭取達到28nm芯片制程。


      如何看待俄羅斯自研X光刻機

      與國內(nèi)情況不同的是俄羅斯在上個世紀80年代就啟動了對于光刻機相關(guān)技術(shù)的研究,并且俄羅斯在數(shù)學領(lǐng)域也很強,還有前蘇聯(lián)留下的計算機工業(yè)基礎(chǔ)。如果前蘇聯(lián)的科學家們能夠得到足夠的資金與支持,也許現(xiàn)在的計算機與互聯(lián)網(wǎng)都會是俄羅斯的天下,遺憾的是前蘇聯(lián)的有關(guān)部門一次又一次的判斷失誤,導致他們最終錯失了計算機時代。


      總體來看,俄羅斯在芯片領(lǐng)域的研究還是有基礎(chǔ)的,缺少的只是資金支持和動力,而在現(xiàn)在這樣的情況下,俄羅斯能夠研究出X光刻機也并不是沒有可能。如果俄羅斯能夠成功的研究出X光刻機,那么對于國內(nèi)華為這樣的公司也是一個不錯的好消息,也能夠穩(wěn)固我們在芯片上的地位。

      至于俄羅斯到底能不能突破目前光刻機的瓶頸,還是需要時間來驗證。試問,你對此事又有什么看法呢?

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